光刻是集成电路制造的核心技术，光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中，只有光刻工艺可以在硅片上产生图形，从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段。基于光刻成像模型，计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化，对掩模上图形的形状和尺寸做修正，还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见，最终保证光刻工艺有足够的分辨率和工艺窗口。本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计（版图设计）的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，最后介绍设计与工艺协同优化。本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况，涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势，系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论，论述了版图设计与制造工艺的关系，以及版图设计对制造良率的影响，讲述和讨论了版图设计与制造工艺协同优化的概念和方法论，并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。本书不仅适合集成电路设计与制造领域的从业者阅读，而且适合高等院校微电子相关专业的本科生、研究生阅读和参考。

如何将一项毫无希望的研究和商业活动转变为价值数十亿美元的机器和世界ling先的公司?

人类从「物种审判」的恐怖阴影中已经存活了近千年，随着科技的发展我们逐渐掌握了一种新的可能性——利用基因超改技术将某种神秘类光体雕刻进基因中从而使人类获得突破性的力量，该类基因被统称为「光刻」，又或者通俗的称为光刻基因。 创是南丁格尔陆军军校...

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本书的作者是长期战斗在异构编程第一线的架构师和开发者，具有非常丰富的OpenCL使用和编程经验，本书正是他们多年OpenCL编程经验的总结。本书不仅详细描述了OpenCL的各种概念和特性；而且通过由浅入深的一系列实际应用案例，帮助读者掌握这个令人激动的新编程模型。本书内容充实，不仅适合不同经验水平的学生和开发者，而且对于致力于异构计算的研究人员，也是一本非常不错的OpenCL教科书。

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《非线性优化计算方法》系统和深入介绍非线性优化的主要计算方法和相关理论，主要内容包括：一维优化方法、梯度法和共轭梯度法、拟牛顿法、直接方法、二次规划、罚函数法、可行方向法、逐步二次规划法、信赖域法、内点法、滤子方法等。

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全球版“一带一路”战略路线图，未来国家竞争力全景预测